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Spin Coater da tavolo senza vuoto
VTC-50A Spin Coater adotta sistemi di alimentazione indipendenti per la parte del motore e la parte di controllo e il sistema di controllo della velocità adotta un microcomputer a chip singolo con un'elevata anti-interferenza da controllare, in modo che la velocità di rotazione sia molto elevata e stabile nell'intervallo di 1000 -8000 giri/min. Il dispositivo di rivestimento ha due stadi durante il funzionamento, vale a dire lo stadio T1 a bassa velocità e lo stadio T2 ad alta velocità.
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Spin Coater (8K rpm, 4" Wafer Max.) Con 3 mandrini sottovuoto
VTC-100 Vacuum Spin Coater è dotato di 3 mandrini sottovuoto (per standard) di diverse dimensioni e diversi mandrini sottovuoto possono essere montati in base alle dimensioni dei campioni. Durante il funzionamento, lo spin coater sottovuoto VTC-100 utilizza il metodo di adsorbimento della piastra sottovuoto per fissare il campione sulla piastra del campione. L'apparecchiatura utilizza un programma a due stadi per controllare la velocità.
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Compact Spin Coater (8K rpm, 4" Wafer Max.) Low Chuck Deisgn
VTC-100B Vacuum Spin Coater è una versione aggiornata di VTC-100 vacuum spin coater. Il coperchio superiore ripiegabile per l'apertura e la chiusura, ed è dotato di chiusura di sicurezza. Allo stesso tempo, ha la funzione di protezione a coperchio aperto per garantire al meglio la sicurezza dell'operatore.
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Macchina di rivestimento con mandrino sottovuoto programmabile (500-6000 giri/min, 8" max)
VTC-200 Vacuum Spin Coater presenta i vantaggi di un funzionamento semplice, una pulizia conveniente e dimensioni ridotte. Viene utilizzato principalmente nel processo di crescita del film nei laboratori di college e università e istituti di ricerca scientifica. Durante il funzionamento, lo spin coater sottovuoto VTC-200 utilizza il metodo di adsorbimento della piastra sottovuoto per fissare il campione sulla piastra del campione. L'apparecchiatura utilizza un programma a due stadi per controllare la velocità.
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Macchina rotante ad alta velocità (10.000 giri/min e 5" max)
VTC-100PA Vacuum Spin Coater è adatto per processo a semiconduttore, cristallo, disco ottico, produzione di lastre e rivestimento superficiale, ecc. Può essere utilizzato per soluzioni di rivestimento acido forte e alcalino forte. L'attrezzatura è dotata di due mandrini sottovuoto di diverse dimensioni (per standard) ed in base alla dimensione del campione. L'apparecchiatura può memorizzare 12 set di programmi e ogni set contiene 6 fasi di corsa.
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Spin Coater ad alta velocità con coperchio riscaldante a 100ºC
VTC-100PA-I Vacuum Spin Coater è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimenti superficiali, ecc. Può essere utilizzato per soluzioni di rivestimento acido forte e alcalino forte. L'attrezzatura è dotata di due mandrini sottovuoto di diverse dimensioni (per standard) ed in base alla dimensione del campione. L'apparecchiatura può memorizzare 12 set di programmi e ogni set contiene 6 fasi di corsa.
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Spin Coater ad alta velocità con coperchio riscaldante a 200ºC
VTC-100PA-II Vacuum Spin Coater è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimenti superficiali, ecc. Può essere utilizzato per soluzioni di rivestimento acido forte e alcalino forte. L'attrezzatura è dotata di due mandrini sottovuoto di diverse dimensioni (per standard) ed in base alla dimensione del campione. L'apparecchiatura può memorizzare 12 set di programmi e ogni set contiene 6 fasi di corsa.
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Macchina rotante ad alta velocità (10.000 giri/min e 5" max) con copertura UV
VTC-100PA-UV UV Spin Coater è adatto per processo a semiconduttore, cristallo, disco ottico, produzione di lastre e rivestimento superficiale, ecc. Il coperchio superiore adotta una sorgente di luce UV ed è particolarmente adatto per materiali sensibili alla luce UV, che può solidificare rapidamente il pellicola rivestita. Inoltre, la lampada UV ha anche una funzione di polimerizzazione, che può polimerizzare il monomero in un film polimerico.
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Spin Coater anticorrosivo (6K RPM e 6" Wafer Max.)
VTC-200P Vacuum Spin Coater è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimenti superficiali, ecc. L'apparecchiatura può memorizzare 12 set di programmi e ogni set contiene 6 fasi di funzionamento. Il coperchio superiore della camera può riscaldare il campione (funzione opzionale), vantaggioso per il processo di rivestimento di materiali a film sottile ad alta viscosità.
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