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Spin Coater da tavolo senza vuoto
VTC-50A Spin Coater adotta sistemi di alimentazione indipendenti per la parte del motore e la parte di controllo e il sistema di controllo della velocità adotta un microcomputer a chip singolo con un'elevata anti-interferenza da controllare, in modo che la velocità di rotazione sia molto elevata e stabile nell'intervallo di 1000 -8000 giri/min. Il dispositivo di rivestimento ha due stadi durante il funzionamento, vale a dire lo stadio T1 a bassa velocità e lo stadio T2 ad alta velocità.
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Spin Coater (8K rpm, 4" Wafer Max.) Con 3 mandrini sottovuoto
VTC-100 Vacuum Spin Coater è dotato di 3 mandrini sottovuoto (per standard) di diverse dimensioni e diversi mandrini sottovuoto possono essere montati in base alle dimensioni dei campioni. Durante il funzionamento, lo spin coater sottovuoto VTC-100 utilizza il metodo di adsorbimento della piastra sottovuoto per fissare il campione sulla piastra del campione. L'apparecchiatura utilizza un programma a due stadi per controllare la velocità.
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Compact Spin Coater (8K rpm, 4" Wafer Max.) Low Chuck Deisgn
VTC-100B Vacuum Spin Coater è una versione aggiornata di VTC-100 vacuum spin coater. Il coperchio superiore ripiegabile per l'apertura e la chiusura, ed è dotato di chiusura di sicurezza. Allo stesso tempo, ha la funzione di protezione a coperchio aperto per garantire al meglio la sicurezza dell'operatore.
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Macchina di rivestimento con mandrino sottovuoto programmabile (500-6000 giri/min, 8" max)
VTC-200 Vacuum Spin Coater presenta i vantaggi di un funzionamento semplice, una pulizia conveniente e dimensioni ridotte. Viene utilizzato principalmente nel processo di crescita del film nei laboratori di college e università e istituti di ricerca scientifica. Durante il funzionamento, lo spin coater sottovuoto VTC-200 utilizza il metodo di adsorbimento della piastra sottovuoto per fissare il campione sulla piastra del campione. L'apparecchiatura utilizza un programma a due stadi per controllare la velocità.
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Macchina rotante ad alta velocità (10.000 giri/min e 5" max)
VTC-100PA Vacuum Spin Coater è adatto per processo a semiconduttore, cristallo, disco ottico, produzione di lastre e rivestimento superficiale, ecc. Può essere utilizzato per soluzioni di rivestimento acido forte e alcalino forte. L'attrezzatura è dotata di due mandrini sottovuoto di diverse dimensioni (per standard) ed in base alla dimensione del campione. L'apparecchiatura può memorizzare 12 set di programmi e ogni set contiene 6 fasi di corsa.
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Dip Coater programmabile ( Bridgman ) con controllo dell'atmosfera
Il rivestimento per immersione ad alta temperatura PTL-HT è ampiamente utilizzato nello studio di vari tipi di trazione e rivestimento ad alta temperatura. Il tubo del forno di riscaldamento può fornire una temperatura di trazione e rivestimento fino a 1000 ℃. Il rivestimento per immersione ad alta temperatura PTL-HT è particolarmente adatto per materiali che sviluppano film sottili ad alte temperature, come film sottili in ceramica, film sottili in cristallo, film sottili in materiale per batterie e speciali film nano sottili.
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Spin Coater ad alta velocità con coperchio riscaldante a 100ºC
VTC-100PA-I Vacuum Spin Coater è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimenti superficiali, ecc. Può essere utilizzato per soluzioni di rivestimento acido forte e alcalino forte. L'attrezzatura è dotata di due mandrini sottovuoto di diverse dimensioni (per standard) ed in base alla dimensione del campione. L'apparecchiatura può memorizzare 12 set di programmi e ogni set contiene 6 fasi di corsa.
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Spalmatrice di film per colata di nastri compatti con mandrino sottovuoto 300 mm × 150 mm
Il rivestimento automatico MSK-AFA-I è ampiamente utilizzato in varie ricerche sui rivestimenti ad alta temperatura, come film ceramici, film di cristallo, film di materiali per batterie, film nano speciali e può adattarsi allo sviluppo futuro della tecnologia di formazione di film in condizioni di alta temperatura. Il substrato viene fissato mediante adsorbimento sottovuoto, in modo che non vi siano fenomeni di grinza sul substrato durante il processo di rivestimento e il rivestimento sia ancora più liscio. La larghezza del film rimane invariata e lo spessore del film può essere regolato in base al micrometro sopra la racla.
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Spin Coater ad alta velocità con coperchio riscaldante a 200ºC
VTC-100PA-II Vacuum Spin Coater è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimenti superficiali, ecc. Può essere utilizzato per soluzioni di rivestimento acido forte e alcalino forte. L'attrezzatura è dotata di due mandrini sottovuoto di diverse dimensioni (per standard) ed in base alla dimensione del campione. L'apparecchiatura può memorizzare 12 set di programmi e ogni set contiene 6 fasi di corsa.
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