Acquista Sega da taglio e dado,Levigatrice e levigatrice,Macchina per il rivestimento di film?

2000 Tempo di fondazione
100+ Conteggio dipendenti
14000 mq Coperto in fabbrica

Sega a filo diamantato per taglio max. 50 mm

Spalmatrice centrifuga ad alta velocità (10.000 giri/min e 5" max)

Sega diamantata a bassa velocità con lame da taglio da 4"

Macchina per lappatura e lucidatura con pressione centrale

Rivestitore compatto per film di colata a nastro con copertura riscaldante superiore

Sistema compatto di fusione ad arco sotto vuoto con 7 cavità

Macchina per lappatura e lucidatura di precisione da 8"

Spalmatrice centrifuga senza aspirazione da tavolo

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SOLUZIONE

Un'analisi approfondita del forno a scatola ad alta temperatura da 125 litri e 1700°C di Shenyang Kejing

2026/02/06

Questo forno a scatola ad alta temperatura, con la sua capacità ultra-ampia di 125 litri e una temperatura massima di 1700°C, è un forno da laboratorio di livello industriale che sta diventando uno strumento potente per numerosi laboratori universitari, istituti di ricerca e aziende industriali nel superare le sfide della preparazione di materiali ad alta temperatura.

Analisi approfondita della pressa per montaggio a caldo metallografico a sei stazioni HXQ-25-6

2026/02/04

Nella ricerca scientifica sui materiali, nella produzione di metalli e negli istituti di prova di terze parti, la preparazione dei campioni metallografici è un passaggio cruciale prima dell'analisi microscopica. Per molti laboratori con un elevato carico di lavoro, il montaggio dei campioni rappresenta spesso un ostacolo all'efficienza. Le tradizionali macchine per il montaggio manuali o a stazione singola non solo richiedono molto tempo, ma dipendono anche fortemente dall'abilità dell'operatore, il che può facilmente portare a una qualità di preparazione del campione incoerente e persino a rilavorazioni nelle successive fasi di molatura e lucidatura a causa di errori umani.

Introduzione della piastra riscaldante da laboratorio sotto vuoto

2026/01/30

Nel lavoro quotidiano dei laboratori dei materiali, ci troviamo spesso di fronte a un dilemma spinoso: la necessità di eseguire trattamenti termici o rivestimenti su campioni ultrasottili (come cristalli, wafer semiconduttori e substrati di celle a combustibile) in un ambiente ad alta temperatura (300℃-500℃), ma i metodi tradizionali di fissaggio meccanico possono facilmente causare danni da stress.