Nel lavoro quotidiano dei laboratori dei materiali, ci troviamo spesso di fronte a un dilemma spinoso: la necessità di eseguire trattamenti termici o rivestimenti su campioni ultrasottili (come cristalli, wafer semiconduttori e substrati di celle a combustibile) in un ambiente ad alta temperatura (300℃-500℃), ma i metodi tradizionali di fissaggio meccanico possono facilmente causare danni da stress.
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Nei laboratori, nei centri di ricerca e negli ambienti industriali, le apparecchiature di riscaldamento ad alta temperatura sono essenziali per molti processi di trattamento termico e di ricerca sui materiali. I tipi più comuni di forni ad alta temperatura sono i forni tubolari da laboratorio e i forni a camera. Differiscono chiaramente per struttura, metodo di riscaldamento, idoneità del campione, controllo della temperatura e aree di applicazione. Comprendere queste differenze facilita la scelta del forno più adatto a specifiche esigenze sperimentali.