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Rivestimento Sputtering al plasma magnetron ad alto vuoto a testa singola
Il rivestimento a sputtering magnetronico a testa singola VTC-600-1HD è un'apparecchiatura di rivestimento ad alto vuoto recentemente sviluppata dalla nostra azienda e viene utilizzata per preparare film ferroelettrici monostrato o multistrato, film conduttivi, film in lega, film semiconduttori, film ceramici, film dielettrico, film ottico, film di ossido, film duro, film di PTFE, ecc. Il rivestimento sputtering magnetron a testa singola VTC-600-1HD è dotato di una pistola bersaglio, scegliendo un bersaglio magnetico forte o un bersaglio magnetico debole.
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Rivestimento Sputtering al Plasma Magnetron ad Alto Vuoto a Doppia Testa
VTC-600-2HD Dual-Head Magnetron Sputtering Coater è un'apparecchiatura di rivestimento ad alto vuoto recentemente sviluppata dalla nostra azienda e viene utilizzata per preparare film ferroelettrici monostrato o multistrato, film conduttivi, film in lega, film semiconduttori, film ceramici, pellicola dielettrica, pellicola ottica, pellicola di ossido, pellicola dura, pellicola di PTFE, ecc. Il rivestimento sputtering magnetron a doppia testa VTC-600-2HD è dotato di due pistole target e due alimentatori, un alimentatore RF per il rivestimento sputtering di materiali non conduttivi materiali e un alimentatore CC per il rivestimento sputtering di materiali conduttivi.
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Rivestimento Sputtering al plasma con 3 sorgenti Sputtering
VTC-600-3HD Threel-Head Magnetron Sputtering Coater è un'apparecchiatura di rivestimento recentemente sviluppata dalla nostra azienda e viene utilizzata per preparare film ferroelettrici monostrato o multistrato, film conduttivi, film in lega, film semiconduttori, film ceramici, film dielettrici , pellicola ottica, pellicola di ossido, pellicola dura, pellicola di PTFE, ecc. Il rivestimento sputtering magnetron a tre teste VTC-600-3HD è dotato di tre pistole target, un alimentatore RF per il rivestimento sputtering di materiali non conduttivi e due alimentatori CC forniture per il rivestimento sputtering di materiali conduttivi.
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Rivestimento Sputtering al plasma con 3 sorgenti Sputtering e vano portaoggetti
Il sistema di preparazione della batteria a film sottile VGB-600-3HD può eseguire operazioni sperimentali in un vano portaoggetti e viene utilizzato per preparare film ferroelettrico monostrato o multistrato, film conduttivo, film in lega, film a semiconduttore, film ceramico, film dielettrico, pellicola ottica, pellicola di ossido, pellicola dura, pellicola di PTFE, ecc. Il sistema è dotato di tre pistole target e un alimentatore RF per il rivestimento sputtering di vari materiali target. L'alimentatore RF può essere collegato a qualsiasi testina target tramite un interruttore di trasferimento.
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Strumento di sputtering al plasma a tre bersagli
1. Il rivestimento mediante sputtering al plasma a tre target è dotato di un misuratore del vuoto e di un misuratore di corrente di sputtering, in grado di monitorare il funzionamento dell'apparecchiatura in qualsiasi momento per ottenere un effetto di rivestimento stabile e affidabile. 2. Il rivestimento mediante sputtering al plasma a tre target può regolare la pressione della camera a vuoto, la corrente di ionizzazione e selezionare il gas di ionizzazione appropriato tramite il regolatore della corrente di sputtering e la microvalvola dell'aria del vuoto per ottimizzare l'effetto del rivestimento. 3. La guarnizione in gomma appositamente progettata sul bordo della campana di vetro non causerà la rottura della campana di vetro dopo un uso prolungato, migliorando così la durata del rivestimento a sputtering al plasma Three Target.
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