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Spalmatore Flim per colata di nastri di grandi dimensioni con letto sottovuoto riscaldabile
Il rivestimento compatto MSK-AFA-L1000 con funzione di asciugatura automatica viene utilizzato principalmente per il rivestimento di pellicole liquide o colloidali in laboratorio. L'apparecchiatura adotta il vuoto inferiore per assorbire i campioni e ha la funzione di riscaldamento inferiore. La temperatura di riscaldamento può raggiungere i 120 ℃ e la funzione di cottura della pellicola viene realizzata durante il processo di rivestimento, in modo che la pellicola possa asciugarsi rapidamente.
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Sistema di deposizione chimica in fase vapore potenziato dal plasma ad alto vuoto (PECVD)
Il PECVD capacitivo a piastre parallele è una tecnologia che utilizza il plasma per attivare i gas reattivi per promuovere reazioni chimiche sulla superficie del substrato o nello spazio vicino alla superficie per formare pellicole allo stato solido. Il principio di base della tecnologia di deposizione di vapore chimico al plasma è che sotto l'azione di un campo elettrico ad alta frequenza o CC, il gas sorgente viene ionizzato per formare plasma e il plasma a bassa temperatura viene utilizzato come fonte di energia, una quantità adeguata di gas reattivo viene introdotto e la scarica di plasma viene utilizzata per attivare il gas reattivo e forma una deposizione di vapore chimico.
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Sistema di elettrofilatura in nanofibra da banco
L'elettrofilatura è un processo semplice ed efficace, con l'azione di un campo elettrico ad alta tensione, per la filatura di soluzioni polimeriche o fusioni in fibre fini con dimensioni che vanno dai micrometri ai nanometri, ovvero l'elettrofilatura a getto di polimeri.
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Può essere utilizzato per la preparazione di biopolimeri, polimeri di base e nanofibre prepolimeriche; preparazione di nanofibre di miscele polimeriche; preparazione di superfici o pellicole con nanopori, nanoparticelle e nanosfere. -
Cappotto di evaporazione termica sotto vuoto con due fonti di riscaldamento
Il rivestimento per evaporazione GSL-1800X-ZF2 può essere ruotato durante il processo di rivestimento per evaporazione, in modo che il materiale della pellicola evaporata sia distribuito uniformemente sulla superficie del campione. La macchina è dotata di due gruppi di unità di evaporazione, una W-boat e un cestello in filo di tungsteno.
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Spalmatore a rotazione ad alta velocità (10.000 giri/min e 5" massimo) da utilizzare nel vano portaoggetti
VTC-100PA-DC Vacuum Spin Coater è dotato di 3 mandrini a vuoto (standard) di diverse dimensioni e diversi mandrini a vuoto possono essere montati in base alle dimensioni dei campioni. Durante il lavoro, il rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-100-DC utilizza il metodo di adsorbimento della piastra sotto vuoto per fissare il campione sulla piastra del campione. L'apparecchiatura utilizza un programma a due fasi per controllare la velocità.
rivestimento a rotazione Sistema di rivestimento a rotazione Spalmatore con centrifugazione di precisioneSend Email Dettagli -
Spalmatore Flim per colata di nastri di grandi dimensioni con area di rivestimento 1100 mm × 550 mm
Il rivestimento automatico MSK-AFA-L1100 è ampiamente utilizzato in varie ricerche di rivestimento ad alta temperatura, come film ceramici, film di cristallo, film di materiali per batterie, nanofilm speciali. La lunghezza della pellicola può essere controllata in base alla distanza percorsa dalla racla, il cui limite è fino a 1025 mm. È possibile aggiungere a questa macchina le relative apparecchiature di asciugatura in base alle esigenze del cliente per soddisfare più esigenze di rivestimento.
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Rivestimento Sputtering al plasma con 3 sorgenti Sputtering
VTC-600-3HD Threel-Head Magnetron Sputtering Coater è un'apparecchiatura di rivestimento recentemente sviluppata dalla nostra azienda e viene utilizzata per preparare film ferroelettrici monostrato o multistrato, film conduttivi, film in lega, film semiconduttori, film ceramici, film dielettrici , pellicola ottica, pellicola di ossido, pellicola dura, pellicola di PTFE, ecc. Il rivestimento sputtering magnetron a tre teste VTC-600-3HD è dotato di tre pistole target, un alimentatore RF per il rivestimento sputtering di materiali non conduttivi e due alimentatori CC forniture per il rivestimento sputtering di materiali conduttivi.
Rivestimento Sputtering al Plasma Magnetron verniciatore sputtering al plasma compatto Rivestimento sputterSend Email Dettagli -
Rivestimento per pirolisi a spruzzo ad ultrasuoni
Il rivestimento per pirolisi/spruzzatore di colla a spruzzo a ultrasuoni MSK-USP-04C utilizza un motore passo-passo e un microprocessore per controllare la pompa volumetrica per garantire una trasmissione accurata delle soluzioni attraverso il set di infusione e la continuità del processo di spruzzatura a ultrasuoni. Un atomizzatore ad ultrasuoni viene utilizzato per preparare un sottile rivestimento micro-nano e un motore passo-passo viene utilizzato per controllare l'atomizzatore per muoversi nelle direzioni dell'asse X e dell'asse Y e la velocità di movimento può essere regolata entro un certo intervallo per garantire l'uniformità del rivestimento sulla superficie del substrato.
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Spalmatore ad immersione nanometrico a 6 posizioni con velocità 1-200 mm/min
Il dispositivo di rivestimento a immersione a 6 posizioni PTL-OV6P può estrarre e rivestire fino a 6 campioni nelle stesse condizioni esterne durante il lavoro e il contenitore della soluzione può caricare diversi materiali di rivestimento liquido. Il tempo di estrazione, il tempo di immersione e il tempo di asciugatura del campione possono essere impostati dal programma. Dopo un rivestimento, girare manualmente il bicchiere di caricamento per far entrare il campione nel processo di rivestimento successivo. Questa macchina è dotata di forno termostatico.
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