Rivestimento a sputtering magnetron ad alto vuoto
1. Il vuoto finale della macchina di rivestimento a spruzzo con testa singola può raggiungere 8,0X10-5Pa.
2. Il rivestimento a sputtering con testa singola è dotato di 1 barca di riscaldamento per evaporazione, 2 stazioni di forno con sorgente a fascio (1 forno con sorgente a fascio è standard), 1 set di misuratori di portata (un set di gas argon) con finestra di osservazione in vetro φ150.
3. Dopo aver ricevuto la macchina per rivestimento a spruzzo con testa singola, forniremo anche servizi post-vendita completi, come la guida remota.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Cina
- 10 giorni lavorativi
- 50 set
- informazione
Introduzione del rivestimento mediante sputtering magnetron ad alto vuoto:
Il dispositivo di rivestimento a sputtering magnetron ad alto vuoto VTC-1HD-ZF2 è un'apparecchiatura di rivestimento multifunzionale ad alto vuoto, che include uno strumento di sputtering magnetron a bersaglio singolo. Il dispositivo di rivestimento a sputtering magnetron ad alto vuoto può essere utilizzato per preparare film ferroelettrici monostrato o multistrato, film conduttivi, film in lega, film semiconduttori, film ceramici, film dielettrici, film ottici, film di ossidi, film rigidi, film di politetrafluoroetilene, ecc.
Vantaggi del rivestimento mediante sputtering al plasma magnetron:
1. Il sistema di rivestimento a sputtering al plasma Magnetron è dotato di una vasca di riscaldamento per deposizione da vapore, particolarmente adatta alla deposizione da vapore di film metallici sensibili all'ossigeno (come Ti, Al, Au, ecc.). Sopra la vasca di riscaldamento del sistema di rivestimento a sputtering al plasma Magnetron si trovano un deflettore girevole, 2 stazioni di forno con sorgente di fascio (1 forno con sorgente di fascio è standard), 1 set di misuratori di portata (un set di gas argon) con finestra di osservazione in vetro φ150.
2. Campo di applicazione del rivestimento mediante sputtering al plasma Magnetron: preparazione di dispositivi di materiali perovskiti, materiali bidimensionali, celle solari fotovoltaiche, ecc.
3.3. Rivestitore a sputtering con testa singola. Potenza assorbita: AC220V/50Hz. Potenza <3,5KW.
Parametri tecnici del rivestimento mediante sputtering al plasma magnetron:
| Nome del prodotto | VTC-1HD-ZF2 Rivestitore a sputtering magnetron ad alto vuoto | |
| Modello del prodotto | VTC-1HD-ZF2 | |
| Parametri principali | 1. Camera a vuoto: φ324×330 Vuoto definitivo 8.0×10-5Pa (sistema di pompa molecolare) Tasso di perdita: 2.0×10-10Pa.m3/S Il materiale è acciaio inossidabile 304, saldatura, trattamento elettrochimico di lucidatura superficiale. La parte attiva è sigillata con un anello di tenuta in gomma, mentre la parte inattiva è sigillata con un anello di tenuta in rame. La trasmissione di potenza adotta un collegamento ad accoppiamento magnetico. La camera a vuoto è dotata di una posizione di controllo magnetico, un set di elettrodi di evaporazione (due) e 2 posizioni del forno con sorgente di fascio (standard 1 forno con sorgente di fascio). È riservato un set di misuratori di portata (un set di gas argon) con una finestra di osservazione in vetro φ150 e un'interfaccia flangiata C35. | |
2. Testa bersaglio di sputtering: 2 pollici (φ50,8 mm) Vuoto di lavoro: 10Pa~0,2Pa. Tasso di utilizzo del materiale target: >35% (target standard in rame da 3 mm, vuoto superficiale del target 0,5 Pa) Potenza MAX: ＜240W (completamente raffreddato) Tensione di isolamento: ＞2000 V (con alimentatore CC da 1 500 W) | ||
3. Resistenza all'evaporazione: Tensione di uscita dell'evaporazione: CA 0-8 V regolabile in modo continuo. Corrente di evaporazione limite 200A. Potenza di evaporazione limite <1,6KW. La temperatura è incontrollabile e non misurabile. | ||
4. Forno a fascio: Capacità del crogiolo: 3 CC. Temperatura di riscaldamento: da temperatura ambiente a 700°C. La temperatura di riscaldamento può essere misurata, regolata e controllata. Precisione del controllo della temperatura: ±0,5°C. Crogiolo di quarzo con deflettore e termocoppia di serie. Alimentazione: 500W, 36V. | ||
5. Stadio campione: φ120. Controllo della temperatura: temperatura ambiente - 500°C. Velocità: 1-20 giri/min. Il piano portacampioni può essere sollevato e abbassato manualmente, con una corsa massima regolabile di 50 mm. | ||
6. Misuratore di spessore del film EQ-TM106-1. 1) Alimentazione: DC 5V (±10%), corrente massima 400mA. 2) Risoluzione di frequenza: ±0,03Hz. 3) Risoluzione dello spessore del film: 0,0136Å (alluminio). 4) Precisione dello spessore del film: ±0,5%, a seconda delle condizioni del processo, in particolare della posizione del sensore, dello stress del materiale, della temperatura e della densità. 5) Velocità di misurazione: 100 ms-1 s/tempo, regolabile. 6) Campo di misura: 500000Å (alluminio). 7) Cristallo sensore standard: 6 MHz. 8) Interfaccia computer: interfaccia seriale RS-232/485 (è possibile impostare la velocità di trasmissione 1200, 2400, 4800, 9600, 19200, 38400, bit di dati: 8, bit di stop: 1, controllo: nessuno) 9) Uscita analogica: risoluzione a 8 bit, uscita a modulazione di larghezza di impulso PWM (collettore aperto o uscita interna a 5 V) 10) Ambiente di lavoro: temperatura 0-50℃, umidità 5%-85%RH, senza condensa. 11) Dimensioni: 90 mm × 50 mm × 18 mm. | ||
| 7. L'apparecchiatura è dotata di serie di un refrigeratore (modello KJ5000). I clienti sono tenuti a fornire il proprio refrigeratore e acqua deionizzata o purificata. | ||
| 8. Potenza assorbita dell'intera macchina: AC220V/50Hz. Potenza <3,5KW. | ||
9. Specifiche del prodotto: Dimensioni: circa 1100 mm × 650 mm × 1100 mm. Peso: circa 160 kg. |
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Chi siamo:
Disponiamo di attrezzature di produzione all'avanguardia e di un rigoroso sistema di gestione della qualità per garantire che ogni prodotto soddisfi gli standard internazionali. Tra questi, il nostro sistema di rivestimento Sputtering a testa singola è particolarmente adatto per l'evaporazione di film metallici sensibili all'ossigeno. Offre prestazioni stabili ed è ampiamente utilizzato nel campo della ricerca sui materiali. Il nostro team di ricerca e sviluppo continua a innovare, combinando la domanda del mercato e il feedback dei clienti per fornire soluzioni più accurate ed efficienti. Grazie a molti anni di esperienza nel settore e all'accumulazione di competenze tecniche, non solo ci siamo guadagnati un'ottima reputazione nel settore, ma abbiamo anche ottenuto un elevato riconoscimento da parte di numerosi clienti.
