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Rivestimento Sputtering al Plasma Magnetron ad Alto Vuoto a Doppia Testa

VTC-600-2HD Dual-Head Magnetron Sputtering Coater è un'apparecchiatura di rivestimento ad alto vuoto recentemente sviluppata dalla nostra azienda e viene utilizzata per preparare film ferroelettrici monostrato o multistrato, film conduttivi, film in lega, film semiconduttori, film ceramici, pellicola dielettrica, pellicola ottica, pellicola di ossido, pellicola dura, pellicola di PTFE, ecc. Il rivestimento sputtering magnetron a doppia testa VTC-600-2HD è dotato di due pistole target e due alimentatori, un alimentatore RF per il rivestimento sputtering di materiali non conduttivi materiali e un alimentatore CC per il rivestimento sputtering di materiali conduttivi.

  • Shenyang Kejing
  • Shenyang, Cina
  • 22 giorni lavorativi
  • 50 set
  • informazione


Caratteristiche principali

1. È dotato di due pistole target, un alimentatore RF viene utilizzato per il rivestimento sputtering di materiali non conduttivi e un alimentatore CC viene utilizzato per il rivestimento sputtering di materiali conduttivi.

2. È possibile preparare una varietà di film sottili con un'ampia gamma di applicazioni.

3. Piccole dimensioni e facile da usare



TParametri tecnici

nome del prodotto

VTC-600-2HD Rivestimento magnetron sputtering a doppia testa

Modello di prodotto

VTC-600-2HD

Condizioni di installazione

È necessario utilizzare questa apparecchiatura a un'altitudine di 1.000 m o inferiore, a una temperatura di 25 ℃ ± 15 ℃ e a un'umidità di 55% Rh ± 10% Rh.

1. Acqua: l'apparecchiatura è dotata di un refrigeratore d'acqua a circolazione automatica (riempimento con acqua pura o acqua deionizzata)

2. Elettricità: AC220V 50Hz, deve avere una buona messa a terra

3. gas: la camera dell'apparecchiatura deve essere riempita con gas argon (purezza 99,99% o superiore) e le bombole di gas argon (con giunti a doppia ghiera Ø6 mm) e la valvola di riduzione della pressione devono essere fornite dagli utenti.

4. Banco da lavoro: dimensioni 1500 mm × 600 mm × 700 mm, con carico superiore a 200 kg

5. Dispositivo di ventilazione: necessario

Parametri principali

(Specifica)

1. Tensione di alimentazione: 220 V 50 Hz

2. Potenza: 900 W

3. Diametro interno della camera: Ø300mm

4. Limite del grado di vuoto: 9,0×10-4Pa

5. Temperatura di riscaldamento del piano campione: RT-500℃, precisione ±1℃ (la temperatura può essere aumentata in base alle esigenze effettive).

6. Numero di pistole bersaglio: 2 pezzi (altre quantità per opzione)

7. Metodo di raffreddamento della pistola target: raffreddamento ad acqua

8. Dimensioni del materiale target: Ø2″, spessore 0,1-5 mm (spessori diversi a causa dei diversi materiali target)

9. Potenza di sputtering CC: 500 W; Potenza sputtering RF: 300 W (il tipo di alimentatore target è opzionale, scegliendo due alimentatori CC o due alimentatori RF oppure un alimentatore CC più un alimentatore RF.)

10. Stadio campione: Ø140 mm, la funzione opzionale di tensione di polarizzazione può essere installata in base alle esigenze del cliente per ottenere una qualità di rivestimento più elevata.

11. Velocità del tavolino campione: regolabile tra 1rpm e 20rpm

12. Gas di lavoro: Ar e altri gas inerti

13. Percorso dell'aria in ingresso: il flussometro di massa controlla 2 percorsi di aspirazione dell'aria, uno è 100SCCM e l'altro è 200SCCM.

Dimensioni e peso del prodotto

1. dimensione della macchina principale: 500 mm × 560 mm × 660 mm

2. Dimensione complessiva: 1300 mm×660 mm×1200 mm

3. Dimensione della camera a vuoto: φ300×300mm

4. Peso: 160 kg

plasma sputtering coater

Accessori standard

1. Sistema di controllo dell'alimentazione CC: 1 set

2. Sistema di controllo della potenza RF: 1 set

3. Sistema di monitoraggio dello spessore della pellicola: 1 set

4. Pompa molecolare (importata dalla Germania): 1 pz

5. Raffreddatore d'acqua: 1 pz

6.Tubo in poliestere PU (Ø6mm): 4m

accessori opzionali

Vari materiali target come oro, indio, argento, platino, ecc.



Garanzia

    Un anno limitato con supporto a vita (escluse le parti arrugginite dovute a condizioni di conservazione inadeguate)



la logistica

Magnetron Plasma Sputtering Coater


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