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Sputtering Coater al plasma magnetron ad alto vuoto a testa singola

brand Shenyang Kejing

Prodotti di origine Shenyang, Cina

Il Tempo di consegna 22 giorni lavorativi

La capacità di approvvigionamento 50 set

VTC-600-1HD Magnetron Sputtering Coater a testa singola è un'apparecchiatura di rivestimento ad alto vuoto recentemente sviluppata dalla nostra azienda e viene utilizzata per preparare film ferroelettrici a strato singolo o multistrato, film conduttivo, film in lega, film semiconduttore, film ceramici, pellicola dielettrica, pellicola ottica, pellicola di ossido, pellicola dura, pellicola di PTFE, ecc.
Il rivestimento sputtering magnetron a testa singola VTC-600-1HD è dotato di una pistola bersaglio, scegliendo un bersaglio magnetico forte o un bersaglio magnetico debole.

Sputtering Coater al plasma magnetron ad alto vuoto a testa singola

Caratteristiche principali

1. È dotato di una pistola bersaglio, scegliendo un alimentatore RF per il rivestimento sputter di materiali non conduttivi o un alimentatore CC viene utilizzato per il rivestimento sputter di materiali conduttivi.

2. È possibile preparare una varietà di film sottili con un'ampia gamma di applicazioni.

3. Dimensioni ridotte e facile da usare



TParametri tecnici

nome del prodotto

VTC-600-1HD Magnetron Sputtering Coater a testa singola

Modello di prodotto

VTC-600-1HD

Condizioni di installazione

Questa apparecchiatura deve essere utilizzata a un'altitudine di 1000 m o inferiore, una temperatura di 25 ℃ ± 15 ℃ e un'umidità del 55% Rh ± 10% Rh.

1. Acqua: l'apparecchiatura è dotata di un refrigeratore d'acqua a circolazione automatica (riempimento con acqua pura o acqua deionizzata)

2. Elettricità: AC220V 50Hz, deve avere una buona messa a terra

3. gas: la camera dell'apparecchiatura deve essere riempita con gas argon (purezza 99,99% o superiore) e le bombole di gas argon (con giunti a doppia ghiera Ø6mm) e la valvola di riduzione della pressione devono essere fornite dagli utenti.

4. Banco da lavoro: dimensioni 1500 mm × 600 mm × 700 mm, sopportando più di 200 kg

5. Dispositivo di ventilazione: necessario

Parametri principali

(Specifica)

1. Tensione di alimentazione: 220V 50Hz

2. Potenza: <1KW (esclusa la pompa del vuoto)

3. Diametro interno della camera: Ø300mm

4. Limite del grado di vuoto: 9.0×10-4Pa

5. Temperatura di riscaldamento della fase del campione: RT-500 ℃, precisione ± 1 ℃ (la temperatura può essere aumentata in base alle effettive esigenze).

6. Numero di pistole bersaglio: 1 pz (altre quantità per opzione)

7. Metodo di raffreddamento della pistola bersaglio: raffreddamento ad acqua

8. Dimensione del materiale target: Ø2″, spessore 0,1-5 mm (spessore diverso a causa dei diversi materiali target)

9. Potenza di sputtering CC: 500 W; Potenza sputtering RF: 300 W (il tipo di alimentatore target è opzionale: un alimentatore CC o un alimentatore RF).

10. Fase di campionamento: Ø140mm, la funzione di tensione di polarizzazione opzionale può essere installata in base alle esigenze del cliente per ottenere una maggiore qualità del rivestimento.

11. Velocità della fase del campione: registrabile all'interno di 1rpm-20rpm

12. Gas di lavoro: Ar e altri gas inerti

13. Percorso dell'aria di aspirazione: il flussometro di massa controlla 2 percorsi di aspirazione dell'aria, uno è 100 SCCM e l'altro è 200 SCCM.

Dimensioni e peso del prodotto

1. dimensione della macchina principale: 500 mm × 560 mm × 660 mm

2. Dimensione complessiva: 1300mm×660mm×1200mm

3. Peso: 160 kg

4. Dimensione della camera a vuoto: φ300×300mm

Accessori standard

1. Sistema di controllo dell'alimentazione CC: 1 set (opzionale)

2. Sistema di controllo della potenza RF: 1 set (opzionale)

3. Radiatore acqua: 1 pz

4. Tubo in poliestere PU (Ø6mm): 4m

accessori opzionali

1. Vari materiali target come oro, indio, argento, platino, ecc.

2. Sistema di monitoraggio dello spessore del film

3. pompa molecolare (importata dalla Germania)



Diranty    

Un anno limitato con supporto a vita (escluse le parti arrugginite a causa di condizioni di conservazione inadeguate)



la logistica

Plasma Sputtering Coater


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