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Spin Coater da tavolo senza vuoto
VTC-50A Spin Coater adotta sistemi di alimentazione indipendenti per la parte del motore e la parte di controllo e il sistema di controllo della velocità adotta un microcomputer a chip singolo con un'elevata anti-interferenza da controllare, in modo che la velocità di rotazione sia molto elevata e stabile nell'intervallo di 1000 -8000 giri/min. Il dispositivo di rivestimento ha due stadi durante il funzionamento, vale a dire lo stadio T1 a bassa velocità e lo stadio T2 ad alta velocità.
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Dip Coater da tavolo con velocità variabile (1-200 mm/min)
PTL-MM01 Dip Coater tira il campione verticalmente tirando il filo. Il campione viene immerso nel materiale del film liquido per un periodo di tempo e poi tirato fuori, in modo che sulla superficie del campione cresca un film di un certo spessore. Il dip coater PTL-MM01 adotta un computer a scheda singola per controllare la velocità di trazione del filo per far funzionare il sollevatore in modo fluido e preciso.
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Spin Coater (8K rpm, 4" Wafer Max.) Con 3 mandrini sottovuoto
VTC-100 Vacuum Spin Coater è dotato di 3 mandrini sottovuoto (per standard) di diverse dimensioni e diversi mandrini sottovuoto possono essere montati in base alle dimensioni dei campioni. Durante il funzionamento, lo spin coater sottovuoto VTC-100 utilizza il metodo di adsorbimento della piastra sottovuoto per fissare il campione sulla piastra del campione. L'apparecchiatura utilizza un programma a due stadi per controllare la velocità.
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Dip Coater programmabile con grado millimetrico (1-200 mm/min)
PTL-MM02 Dip Coater controllato da programma tira il campione verticalmente tirando il filo. Il dip coater programmabile PTL-MM02 adotta il controllo del programma PLC per impostare e regolare la velocità di trazione, il tempo di immersione del campione nel materiale di rivestimento liquido, la velocità del campione che entra nel liquido, i tempi di ciclo del campione che entra e esce dal materiale di rivestimento liquido e il tempo di asciugatura del campione.
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Compact Spin Coater (8K rpm, 4" Wafer Max.) Low Chuck Deisgn
VTC-100B Vacuum Spin Coater è una versione aggiornata di VTC-100 vacuum spin coater. Il coperchio superiore ripiegabile per l'apertura e la chiusura, ed è dotato di chiusura di sicurezza. Allo stesso tempo, ha la funzione di protezione a coperchio aperto per garantire al meglio la sicurezza dell'operatore.
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Dip Coater di precisione controllato da PLC (1-200 mm/min)
PTL-MM02-200 Il Dip Coater verticale controllato da programma è un'apparecchiatura di precisione appositamente progettata per lo studio di film a crescita liquida. Il film viene cresciuto tirando verticalmente il campione che viene immerso nel materiale di rivestimento liquido. È possibile rivestire campioni più grandi e la dimensione dei campioni può raggiungere 310 mm × 260 mm con uno spessore di 1 mm-5 mm.
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Macchina di rivestimento con mandrino sottovuoto programmabile (500-6000 giri/min, 8" max)
VTC-200 Vacuum Spin Coater presenta i vantaggi di un funzionamento semplice, una pulizia conveniente e dimensioni ridotte. Viene utilizzato principalmente nel processo di crescita del film nei laboratori di college e università e istituti di ricerca scientifica. Durante il funzionamento, lo spin coater sottovuoto VTC-200 utilizza il metodo di adsorbimento della piastra sottovuoto per fissare il campione sulla piastra del campione. L'apparecchiatura utilizza un programma a due stadi per controllare la velocità.
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Dip Coater di precisione controllato da PLC (1-500 mm/min)
PTL-MM02-500 Il Dip Coater verticale controllato da programma è un'apparecchiatura di precisione appositamente progettata per lo studio di film a crescita liquida di substrati. Il film viene cresciuto tirando verticalmente il campione che viene immerso nel materiale di rivestimento liquido. La velocità di trazione, il tempo di immersione, la velocità del campione che entra nel liquido, i tempi di ciclo del rivestimento del campione e il tempo di asciugatura del campione possono essere controllati dal sistema di controllo.
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Macchina rotante ad alta velocità (10.000 giri/min e 5" max)
VTC-100PA Vacuum Spin Coater è adatto per processo a semiconduttore, cristallo, disco ottico, produzione di lastre e rivestimento superficiale, ecc. Può essere utilizzato per soluzioni di rivestimento acido forte e alcalino forte. L'attrezzatura è dotata di due mandrini sottovuoto di diverse dimensioni (per standard) ed in base alla dimensione del campione. L'apparecchiatura può memorizzare 12 set di programmi e ogni set contiene 6 fasi di corsa.
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