• Spalmatore con centrifugazione aspirabile e ad atmosfera controllata

    Spalmatore con centrifugazione aspirabile e ad atmosfera controllata

    Il rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-200PV è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimento superficiale, ecc. La camera del rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-200PV può essere messa sotto vuoto per rivestire il campione in condizioni di completo vuoto, che è adatto per materiali in pellicola che si ossidano facilmente e si deteriorano all'aria. Un morsetto viene utilizzato per fissare il campione quando la camera viene messa sotto vuoto. L'apparecchiatura può memorizzare 12 serie di programmi e ogni serie contiene 6 fasi di esecuzione.

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  • Spalmatore con rotazione ad altissima velocità da 10.000 giri/min

    Spalmatore con rotazione ad altissima velocità da 10.000 giri/min

    VTC-100PAX Vacuum Spin Coater è una macchina livellatrice di colla di precisione ad alte prestazioni. Adotta un concetto di design avanzato e collabora con un preciso sistema di controllo del movimento per operazioni di erogazione della colla ad alta precisione e ad alta uniformità. Si possono memorizzare 6 gruppi di programmi, ogni programma può raggiungere 9 step. Tutti i parametri operativi possono essere facilmente impostati sul dispositivo, come velocità, accelerazione, tempo di rotazione, ecc.

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  • Rivestimento a spruzzo-spin ad ultrasuoni (300-3000 giri/min, wafer massimo da 12

    Rivestimento a spruzzo-spin ad ultrasuoni (300-3000 giri/min, wafer massimo da 12")

    Il rivestimento a spruzzo/spruzzatore di colla a ultrasuoni VTC-300USS può controllare con precisione il rapporto stechiometrico della soluzione, la velocità di spruzzatura delle particelle di nebbia, la dimensione delle particelle di nebbia e altri parametri. Il diametro dei substrati assorbibili (del dispositivo di rivestimento/spruzzatore di colla a rotazione ultrasonica VTC-300USS) può arrivare fino a 12" (300 mm).

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  • Spalmatore con rotazione ad altissima velocità da 20000 giri/min

    Spalmatore con rotazione ad altissima velocità da 20000 giri/min

    Il rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-100PAH è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimento superficiale, ecc. Il campione viene fissato mediante adsorbimento sotto vuoto in modo che i campioni possano essere prelevati e posizionati liberamente. Il motore si avvia in modo rapido e stabile, garantendo la consistenza e l'uniformità dello spessore del rivestimento.

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  • Spalmatore rotante senza vuoto da tavolo per l'uso nel vano portaoggetti

    Spalmatore rotante senza vuoto da tavolo per l'uso nel vano portaoggetti

    VTC-50A-DC Spin Coater adotta sistemi di alimentazione indipendenti per la parte motore e la parte di controllo, e il sistema di controllo della velocità adotta un microcomputer a chip singolo con elevata anti-interferenza per il controllo, in modo che la velocità di rotazione sia molto elevata e stabile nell'intervallo di 1000-8000 giri/min. Il dispositivo di rivestimento ha due fasi durante il funzionamento, ovvero la fase T1 a bassa velocità e la fase T2 ad alta velocità.

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  • Spalmatore a rotazione ad alta velocità (10.000 giri/min e 5

    Spalmatore a rotazione ad alta velocità (10.000 giri/min e 5" massimo) da utilizzare nel vano portaoggetti

    VTC-100PA-DC Vacuum Spin Coater è dotato di 3 mandrini a vuoto (standard) di diverse dimensioni e diversi mandrini a vuoto possono essere montati in base alle dimensioni dei campioni. Durante il lavoro, il rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-100-DC utilizza il metodo di adsorbimento della piastra sotto vuoto per fissare il campione sulla piastra del campione. L'apparecchiatura utilizza un programma a due fasi per controllare la velocità.

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  • Spalmatore Spin-Spray (2000 giri/min e 6

    Spalmatore Spin-Spray (2000 giri/min e 6" max) con coperchio riscaldante

    VTC-200-4P Spalmatore a spruzzo con riscaldamento a infrarossi (livellatore di colla, sviluppatore, spinner di colla, spalmatore di rotazione) con funzione di riscaldamento del coperchio superiore, viene utilizzato principalmente per lo sviluppo di grafica e rivestimento superficiale nella tecnologia di produzione di semiconduttori e lastre. Dopo il processo di livellamento o sviluppo della colla, il solvente nella pellicola colloidale evapora fino al contenuto minimo. Durante il processo di lavoro, il liquido o colloide di sviluppo viene spruzzato sul campione sotto forma di nebbia, in modo che la soluzione sia distribuita uniformemente sulla superficie del campione, il che favorisce il buon funzionamento della pellicola e del processo di sviluppo.

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  • Pompa a siringa con touch screen

    Pompa a siringa con touch screen

    La pompa a siringa a canale singolo EQ-300SP-I è composta da un motore passo-passo e il relativo driver, un'asta a vite e una staffa, nonché una vite e un dado alternativi. Il dado è collegato al pistone della siringa e la soluzione è contenuta nella siringa, che può realizzare una trasmissione del liquido ad alta precisione, fluida e priva di pulsazioni. Viene utilizzato principalmente nella fornitura di soluzioni di spruzzatura di atomizzazione ad ultrasuoni e di sistemi di elettrofilatura.

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  • Spalmatore rotante anticorrosione (6.000 giri/min e wafer max. da 6

    Spalmatore rotante anticorrosione (6.000 giri/min e wafer max. da 6") -

    Il rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-200P è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimento superficiale, ecc. L'apparecchiatura può memorizzare 12 set di programmi e ciascun set contiene 6 fasi di esecuzione. Il coperchio superiore della camera può riscaldare il campione (funzione opzionale), il che è vantaggioso per il processo di rivestimento di materiali a film sottile ad alta viscosità.

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