Introduzione della piastra riscaldante da laboratorio sotto vuoto

Nel lavoro quotidiano dei laboratori dei materiali, ci troviamo spesso di fronte a un dilemma spinoso: la necessità di eseguire trattamenti termici o rivestimenti su campioni ultrasottili (come cristalli, wafer semiconduttori e substrati di celle a combustibile) in un ambiente ad alta temperatura (300℃-500℃), ma i metodi tradizionali di fissaggio meccanico possono facilmente causare danni da stress.

2026/01/30

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