Introduzione della piastra riscaldante da laboratorio sotto vuoto

Nel lavoro quotidiano dei laboratori dei materiali, ci troviamo spesso di fronte a un dilemma spinoso: la necessità di eseguire trattamenti termici o rivestimenti su campioni ultrasottili (come cristalli, wafer semiconduttori e substrati di celle a combustibile) in un ambiente ad alta temperatura (300℃-500℃), ma i metodi tradizionali di fissaggio meccanico possono facilmente causare danni da stress.

Per affrontare questa sfida sperimentale, il nostro team ha progettato specificamente il vuoto HP-500Vpiastra riscaldante da laboratorioOggi vorremmo discutere, da una prospettiva tecnica, di come questo dispositivo raggiunga un equilibrio tra adsorbimento ad alto vuoto e riscaldamento uniforme ad alta temperatura.

I. Materiale del nucleo: perché insistiamo nell'utilizzare ottone fuso?

Moltipiastre riscaldanti da laboratorioSul mercato si utilizzano leghe di alluminio o ceramica, ma per l'HP-500V abbiamo impostato la temperatura massima a 500 °C. A questo intervallo di temperatura, l'alluminio comune è soggetto a scorrimento, mentre la ceramica, sebbene resistente alle alte temperature, è leggermente inferiore in termini di uniformità termica.

Abbiamo scelto l'ottone fuso come materiale per la piastra riscaldante centrale.

• Resistenza alla deformazione: l'ottone fuso mantiene un'eccellente resistenza meccanica a 500°C e, combinato con una struttura di dissipazione del calore a doppio strato, garantisce che la superficie non si deformi durante il funzionamento ad alta temperatura a lungo termine.

• Uniformità termica: l'elevata conduttività termica del rame consente un rapido trasferimento del calore dall'elemento riscaldante all'intera superficie. Per le analisi chimiche e gli esperimenti di misurazione fisica, ciò significa che la differenza di temperatura tra il punto centrale e il punto di contatto è naturalmente minimizzata dalle proprietà fisiche.

II. Adsorbimento sotto vuoto:

La caratteristica più importante dell'HP-500Vpiastra riscaldante da laboratorio sono i micropori di adsorbimento di precisione disposti all'interno dell'area di riscaldamento effettiva di 350 mm × 240 mm.

Principio di funzionamento: Ilpiastra riscaldante da laboratorio richiede una pompa per vuoto esterna (velocità di pompaggio consigliata ≥70 L/M). Attraverso la camera di pressione negativa sul fondo, viene creata una forte forza di adsorbimento sulla superficie della piastra riscaldante.

Scenari applicativi: Questo è particolarmente importante per la spruzzatura pirolitica e il rivestimento del substrato delle celle a combustibile. Adsorbe saldamente il campione a film sottile sulla superficie, risolvendo il problema del fissaggio del campione e, poiché il campione è a stretto contatto con la piastra di rame, migliorando notevolmente l'efficienza del trasferimento di calore ed eliminando gli errori di temperatura causati dai vuoti d'aria.

III. Hardware potente e software all'altezza. Questo dispositivo non è solo una piastra riscaldante, ma un preciso sistema di controllo della temperatura.

Controllo della temperatura con intelligenza artificiale PID: utilizziamo un algoritmo PID basato sull'intelligenza artificiale, che garantisce un controllo della temperatura stabile a ±1°C. Durante il processo di riscaldamento, il sistema elimina automaticamente le sovraelongazioni; nella fase di temperatura costante, risponde rapidamente a piccole fluttuazioni della temperatura ambiente.

Configurazione di potenza: il design ad alta potenza da 3500 W garantisce una rapida velocità di riscaldamento, riducendo i tempi di attesa sperimentali.

IV. Suggerimenti per l'installazione e l'utilizzo dal punto di vista di un ingegnere.

In qualità di personale tecnico del produttore, per aiutarti a utilizzare questa apparecchiatura in modo efficace, abbiamo alcuni suggerimenti basati sulla nostra esperienza di debug:

Per quanto riguarda il flusso d'aria ambiente (molto importante):

Sebbene il dispositivo abbia una potenza elevata, si prega di evitare assolutamente di posizionarlo vicino alle bocchette di ventilazione del condizionatore, al flusso d'aria diretto di un ventilatore o in una cappa aspirante con un flusso d'aria intenso. Dati sperimentali dimostrano che un forte flusso d'aria convettivo altera significativamente l'uniformità del campo di temperatura sulla superficie della piastra riscaldante, causando una diminuzione della temperatura del bordo a causa dell'effetto di raffreddamento del vento.

Ambiente di alimentazione:

ILpiastra riscaldante da laboratorio Ha una corrente nominale di circa 16 A (basata su 220 V/3500 W), ma all'avvio si verificherà una sovratensione. I requisiti di installazione indicano chiaramente che è richiesto un alimentatore monofase CA 220 V 50 Hz 25 A, con adeguata messa a terra. Assicuratevi di controllare l'impianto elettrico del vostro laboratorio e di non utilizzare prese multiple di qualità inferiore.

Pratica di preriscaldamento:

Sebbene sia realizzato in rame fuso, prima di condurre esperimenti ad alta precisione, si consiglia di mantenere la temperatura impostata per 10-15 minuti dopo averla raggiunta. Ciò consente al calore di raggiungere completamente l'equilibrio termico in tutta la piastra di rame. Posizionare il campione in questo punto garantirà la migliore ripetibilità dei dati sperimentali.

AShenyang Kejing, prima dell'HP-500Vpiastra riscaldante da laboratorio Quando lascia la fabbrica, eseguiamo rigorosi test di isolamento, test di messa a terra e test di tenuta sotto vuoto.

Questa piastra riscaldante in ottone apparentemente semplice incarna la nostra conoscenza della tecnologia di lavorazione dei materiali. Che si tratti di essiccazione della perovskite o di trattamento termico dei metalli, speriamo che l'HP-500V sia la soluzione ideale.piastra riscaldante da laboratorio diventerà il tuo partner più robusto, stabile ed efficiente sul banco del tuo laboratorio.