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Applicazione dello Spin Coater nel processo di fotolitografia dei semiconduttori

Degommatura: utilizzando la macchina per il rivestimento a centrifuga a spruzzo VTC-200-4P per il processo di degommatura a umido, il solvente organico viene gocciolato sulla pellicola fotoresistente sulla superficie del modello, in modo che la pellicola fotoresistente venga dissolta e rimossa, lasciando un modello pulito. Le apparecchiature di rivestimento disponibili per il rivestimento includono la macchina per rivestimento a centrifuga sotto vuoto VTC-100PA, la macchina per rivestimento a centrifuga sotto vuoto con riscaldamento del coperchio superiore VTC-100PA-Ⅰ, la macchina per rivestimento a centrifuga sotto vuoto VTC-100, la macchina per rivestimento a centrifuga sotto vuoto VTC-200, la macchina per rivestimento rotativo sotto vuoto VTC-200PV, la macchina per rivestimento rotativo a spruzzo VTC-200-4P e la macchina per rivestimento a centrifuga ultravioletta VTC-100PA-UV. È possibile utilizzare diverse macchine per rivestimento a centrifuga in base al processo specifico.

2025/06/16
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I vantaggi dell'utilizzo di un refrigeratore da laboratorio

Un refrigeratore da laboratorio è un sistema di raffreddamento appositamente progettato per mantenere una temperatura costante per apparecchiature o processi di laboratorio. Il principio di funzionamento consiste nel far circolare il fluido refrigerante (acqua, glicole etilenico o un refrigerante specifico) in un sistema a circuito chiuso, rimuovendo così il calore dall'apparecchiatura o dal campione. Questo processo garantisce che la temperatura rimanga stabile e entro l'intervallo richiesto, il che è fondamentale per l'accuratezza e l'affidabilità di molte applicazioni di laboratorio.

2025/06/13
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In che modo il forno di essiccazione da laboratorio migliora l'efficienza del lavoro?

Con il rapido sviluppo dell'industria moderna, l'importanza del prodotto si è gradualmente riflessa. Queste apparecchiature sono ampiamente utilizzate anche in settori come quello farmaceutico, elettronico e della scienza dei materiali. Questi settori hanno inoltre requisiti elevati per l'essiccazione e la polimerizzazione di materiali sensibili. Il forno di essiccazione da laboratorio che produciamo soddisfa pienamente le elevate esigenze di questi settori e può aiutare i clienti a raggiungere elevate prestazioni in produzione o in fase di sperimentazione.

2025/05/29
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Qual è la differenza tra DC, IF e RF nello sputtering?

L'emergere e l'applicazione della tecnologia di sputtering ha attraversato molte fasi. Dopo oltre 30 anni di sviluppo, la tecnologia di sputtering magnetron si è evoluta in un metodo insostituibile per film sottili ottici, elettrici e altri funzionali. Quanto ne sai?

2025/03/21
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Quali sono i fattori che influenzano lo sputtering magnetron ad alto vuoto?

Sulla base dello sputtering magnetron di base, vengono introdotti un ambiente di crescita ad alto vuoto e ad alta temperatura e la tecnologia al plasma viene combinata per migliorare l'efficienza di reazione della deposizione reattiva, in modo da realizzare l'epitassia del film di sputtering magnetron. Il film preparato in questa condizione di alto vuoto ha un migliore orientamento del reticolo e proprietà cristalline più eccezionali. Ha un'ampia gamma di applicazioni nei materiali quantistici superconduttori, ferroelettrici, piezoelettrici, termoelettrici e altri campi. Lo stato di alto vuoto aiuta a ridurre l'influenza delle impurità e garantisce che le particelle sputterate non reagiscano negativamente con altri gas durante il processo di deposizione.

2025/03/20
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