Rivestimento rotante a riscaldamento sottovuoto

Rivestimento rotante a riscaldamento sottovuoto

1. Il sistema di rivestimento a centrifuga VTC-100PAD Lab è un sistema ad alte prestazioni progettato per la deposizione precisa di film sottili e rivestimenti su semiconduttori, cristalli e componenti ottici.
2. Il sistema di spin coater Lab è dotato di un sistema di riscaldamento integrato (fino a 100 °C) e di una camera in PTFE resistente alla corrosione, ed è la soluzione ideale per i ricercatori che lavorano su celle solari a perovskite, elettronica organica e analisi avanzata dei materiali.

informazione

Presentazione della macchina per rivestimento a riscaldamento sottovuoto VTC-100PAD:

La macchina per rivestimento a riscaldamento sottovuoto VTC-100PAD è progettata per processi di rivestimento superficiale e preparazione di film sottili che coinvolgono materiali come semiconduttori, cristalli, componenti ottici e lastre di stampa.

Questa apparecchiatura per la preparazione di film sottili è compatibile con soluzioni di rivestimento corrosive, inclusi acidi e basi forti, soddisfacendo così i requisiti di un'ampia gamma di processi complessi. L'unità è fornita di serie con un mandrino a vuoto in alluminio da 3 pollici con funzione di riscaldamento integrata; inoltre, è possibile personalizzare mandrini di diverse specifiche per adattarsi a campioni di varie dimensioni.

Durante il funzionamento, i campioni vengono fissati al portacampioni tramite adsorbimento sottovuoto, garantendo stabilità operativa e posizionamento preciso. Il sistema supporta un controllo programmabile multi-segmento, con ogni programma composto da sei fasi operative distinte. Ciò consente una regolazione segmentata della velocità di rotazione e un'accelerazione graduale, migliorando efficacemente l'uniformità del film sottile sulla superficie del campione e riducendo al contempo gli sprechi di materiale.

Caratterizzata da una struttura compatta, facilità d'uso e praticità di pulizia e manutenzione, questa apparecchiatura è ampiamente utilizzata in università, istituti di ricerca e laboratori affini per applicazioni nella preparazione di film sottili e nella ricerca sui materiali.

Caratteristiche principali dell'apparecchiatura per la preparazione di film sottili:

· Lo spin coater da laboratorio utilizza l'adsorbimento sottovuoto per fissare i campioni, offrendo un funzionamento semplice e un posizionamento affidabile, con un livello di vuoto che raggiunge -0,08 MPa.

· Lo spin coater da laboratorio è dotato di uno strumento di posizionamento del campione che facilita il rapido centraggio del campione, riducendo così le vibrazioni o i problemi di espulsione del campione causati dall'eccentricità.

· Il piccolo spin coater può essere configurato con mandrini a vuoto di varie specifiche per adattarsi a diverse dimensioni dei campioni; questi mandrini sono dotati di una funzione di riscaldamento integrata e sono facilmente intercambiabili.

• Utilizza un motore brushless a 24 V CC, che garantisce un funzionamento fluido, bassa rumorosità e vibrazioni minime. Le sue capacità di avviamento e accelerazione stabili assicurano efficacemente la consistenza e l'uniformità dello spessore del rivestimento depositato.

·IL centrifuga da laboratorioè dotata di una pompa per vuoto a doppio cilindro senza olio, caratterizzata da una struttura semplice, ingombro ridotto, facilità di manutenzione e assenza di contaminazione da olio.

La camera di rivestimento è realizzata in politetrafluoroetilene (PTFE), che offre un'eccellente resistenza ad acidi e basi forti, una resistenza superiore alle fessurazioni da stress e una lunga durata. Il corpo della macchina per il rivestimento a riscaldamento sottovuoto presenta una struttura in alluminio pressofuso, che garantisce robustezza, leggerezza e durata nel tempo.

· Il sistema di spin coater da laboratorio supporta processi di preparazione di film sottili condotti in atmosfera di gas inerte (ad esempio, Ar o N₂).

• La centrifuga da laboratorio è dotata di un sistema di controllo PLC abbinato a un'interfaccia touchscreen, che fornisce una visualizzazione intuitiva dei parametri e garantisce un funzionamento comodo e affidabile. • L'apparecchiatura per la preparazione di film sottili è dotata di una funzione di protezione di sicurezza contro l'apertura del coperchio: se il coperchio superiore viene aperto durante il funzionamento, il dispositivo decelera automaticamente fino all'arresto completo, migliorando così la sicurezza operativa.

Specifiche tecniche del piccolo impianto di rivestimento a centrifuga:

Nome del prodotto	Macchina per rivestimento a riscaldamento sottovuoto VTC-100PAD
Modello di prodotto	VTC-100PAD
Requisiti di installazione delle apparecchiature per la preparazione di film sottili	1. Temperatura e umidità: 10–85% UR (a 25 °C, senza condensa); Temperatura: 0–45 °C. 2. L'area circostante l'apparecchiatura deve essere priva di forti fonti di vibrazione e gas corrosivi. 3. Acqua: L'apparecchiatura è dotata di uno scarico. 4. Alimentazione: monofase CA 220 V, 50 Hz; presa standard a 3 pin (10 A); deve essere correttamente messa a terra. 5. Gas: Vuoto (tramite pompa a vuoto) con una portata di pompaggio non inferiore a 70 L/min (l'apparecchiatura supporta anche l'introduzione di gas inerti protettivi, ad esempio Ar o N2). 6. Banco da lavoro: Dimensioni consigliate: 800 × 600 × 700 mm; Capacità di carico: 50 kg (è preferibile un banco in cemento armato). 7. Ventilazione: Nessun requisito particolare.
Principali parametri delle apparecchiature per la preparazione di film sottili	1. Alimentazione della macchina per rivestimento a riscaldamento sottovuoto: CA 220 V, 50 Hz
	2. Camera di rivestimento (Materiale): PTFE (Politetrafluoroetilene)
	3. Portacampioni (morsetto a vuoto): 1 morsetto a vuoto in alluminio da 3 pollici (altre misure disponibili su richiesta)
	4. Modalità operativa: include 1 set di programmi; ogni set comprende 6 fasi operative distinte.
	5. Velocità di rivestimento: da 500 giri/min a 10.000 giri/min (intervallo effettivo); incremento di velocità: 100 giri/min.
	6. Durata del rivestimento: Intervallo di tempo per fase: da 1 a 9999 secondi.
	7. Stabilità della velocità: ±1%
	8. Sistema di controllo: programmatore PLC + interfaccia touchscreen
	9. Metodo di riscaldamento: Riscaldamento a resistenza; il controllo del riscaldamento è integrato con il sistema di controllo dell'unità principale.
	10. Temperatura di riscaldamento: RT (temperatura ambiente) – 100 °C; durata massima del riscaldamento impostabile fino a 9999 secondi. Il controllo della temperatura può essere configurato per funzionare in combinazione con la sequenza programmata o in modo indipendente (tramite un tasto di attivazione della temperatura dedicato).
	11. Potenza di riscaldamento: CA 220 V, 150 W; Precisione del controllo della temperatura: ±5 °C.
	12. Specifiche delle apparecchiature per la preparazione di film sottili: · Dimensioni: 450 mm × 280 mm × 340 mm; · Peso: 20 kg
Conformità	La certificazione CE, UL o CSA è disponibile a un costo aggiuntivo.

Accessori standard della macchina per rivestimento a riscaldamento sottovuoto:

NO.	Nome	Quantità	Link all'immagine
1	Mandrino per aspirazione da 3 pollici (standard imperiale)	1 unità
2	Allineatore centrale (con 4 perni di allineamento)	1 unità
3	Contagocce	1 unità
4	Pompa per vuoto senza olio	1 unità