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Macchina per sputtering al plasma a 3 bersagli

1. Questo rivestimento a sputtering al plasma a 3 bersagli rotanti è caratterizzato da un design compatto, che consente di risparmiare spazio in laboratorio e di posizionarlo su una scrivania.
2. Questo rivestimento al plasma a sputtering con 33 bersagli rotanti è dotato di un pannello di controllo PLC, che rende il funzionamento più comodo e intuitivo, riducendo gli errori sperimentali.
3. Il nostro sistema di rivestimento al plasma a sputtering con 3 bersagli rotanti è stato sviluppato grazie ad anni di esperienza, soddisfacendo pienamente le esigenze dei clienti e garantendo risultati superiori.

  • Shenyang Kejing
  • Shenyang, Cina
  • 10 giorni lavorativi
  • 50 set
  • informazione

Introduzione della macchina per rivestimento mediante sputtering al plasma:

L'apparecchiatura per sputtering al plasma a 3 target VTC-16-3HD è un sistema compatto per sputtering al plasma di film sottili, certificato CE, in grado di rivestire substrati con un diametro massimo di 2 pollici. L'apparecchiatura per sputtering al plasma a 3 target è dotata di un pannello di controllo touchscreen e può rivestire tre diversi materiali target. Per i film sottili, il tempo di sputtering può essere ridotto; per i film più spessi, il tempo di sputtering può essere aumentato. L'apparecchiatura per sputtering al plasma a 3 target VTC-16-D è progettata principalmente per la produzione di film metallici sottili, con un'area di produzione fino a 4 pollici. Le sue dimensioni compatte e l'elevata convenienza la rendono un sistema di rivestimento ideale per una varietà di film metallici sottili.

3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater

Caratteristiche principali della macchina per rivestimento mediante sputtering al plasma:

1. L'apparecchiatura di sputtering al plasma a 3 bersagli è dotata di un pannello di controllo PLC, un touchscreen da 4,3 pollici e controllo della temperatura PID. 

2. I parametri controllabili della macchina per rivestimento mediante sputtering al plasma includono il livello di vuoto, la corrente, la posizione del bersaglio e la temperatura di riscaldamento del substrato.

3. La macchina per rivestimento mediante sputtering al plasma può essere utilizzata con una pompa per vuoto e morsetti a sgancio rapido a soffietto in acciaio inossidabile KFD25.

4. La macchina per rivestimento mediante sputtering al plasma è certificata CE.


Parametri tecnici della macchina per rivestimento mediante sputtering al plasma:

Nome del prodottoApparecchiatura di sputtering al plasma a 3 bersagli VTC-16-3HD
ModelloVTC-16-3HD 3
Parametri principali

1. Potenza in ingresso del rivestimento al plasma a sputtering rotante a 3 bersagli: CA 220 V 50/60 Hz

2. Corrente di sputtering del rivestimento di sputtering al plasma a 3 bersagli rotanti: 0-40 mA, regolabile

3. Potenza: <1kW

4. Tensione di uscita: massimo 1680 V CC

Camera di sputtering

1. Materiale: camera di quarzo

2. Dimensioni: OD 166 mm × ID 150 mm × 150 mm

3. Sigillatura: guarnizione O-ring

4. Un deflettore azionabile manualmente è installato sul coperchio della flangia per la pre-spruzzatura del target. Un raccordo a compressione φ 6,35 mm funge da porta di ingresso dell'aria per il collegamento al tubo di ingresso. Una valvola di sfiato manuale viene utilizzata per iniettare aria nella camera di quarzo.

5. Una copertura in rete di acciaio inossidabile ricopre l'intera camera di quarzo per proteggere il plasma.

plasma sputtering coating machine

6. La portata del gas di lavoro che entra nella camera di quarzo viene controllata regolando la valvola di controllo di micro-precisione sul lato destro dell'alloggiamento, regolando così il livello di vuoto all'interno della camera.

7. La corrente di sputtering viene controllata regolando il potenziometro sul lato destro dell'alloggiamento.

3-target plasma sputtering equipment3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater

Bersaglio

1. Sono previsti tre bersagli in rame standard.

2. Dimensioni del bersaglio: φ47 x (0,1-3) mm di spessore.

3. Altri bersagli metallici sono disponibili per l'acquisto presso la nostra azienda; per maggiori dettagli, contattare il nostro reparto vendite.

4. Per la pre-spruzzatura del bersaglio è installato un deflettore azionato manualmente.

Fase di campionamento

1. Un tavolino portacampioni girevole da 50 mm con viti sulla colonna di supporto del tavolino portacampioni per regolare l'altezza del tavolino portacampioni.

2. Angolo di rotazione del palco del campione: 0/120/240 gradi.

3. La distanza tra il bersaglio e il piano del campione è regolabile da 20 a 70 mm.

4. La fase del campione può essere opzionalmente riscaldata, con una temperatura massima di 500°C.

plasma sputtering coating machine
Pannello di controllo

Un pannello di controllo touchscreen integrato nel PLC da 1,4 " controlla il vuoto, la corrente e il tempo di sputtering del campione.

2. Una funzione di registrazione dei dati registra i parametri di processo quali vuoto, corrente e tempo di sputtering per ogni ciclo di sputtering, semplificando l'accesso ai dati da parte dei clienti.

3-target plasma sputtering equipment
Sistema di vuoto (opzionale)

1. Modello: VRD-8

2. Portata di pompaggio: 2,2 L/s

3. Potenza del motore: 370 W

4. Pressione massima: 5 × 10-1 Pa (senza carico).

5. Pressione effettiva: ≤ 5 Pa (20 minuti di pompaggio meccanico a freddo).

3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater

6. Se si desidera ottenere un grado di vuoto più elevato (10-5 toor o superiore), è possibile scegliere di acquistare unità per alto vuoto nazionali o importate.

plasma sputtering coating machine

Specifiche

Dimensioni: 460 mm × 400 mm × 500 mm (L × P × A)

Peso: circa 20 kg

3-target plasma sputtering equipment
Istruzioni

1. Per ottenere lo spessore desiderato della pellicola sono necessari più cicli di sputtering.

2. Prima di procedere allo sputtering, assicurarsi che la testina di sputtering, il target, il campione e il piano portacampione siano puliti.

3. Per garantire una buona adesione tra la pellicola e il substrato, pulire la superficie del substrato prima di procedere allo sputtering. A questo scopo, è possibile utilizzare la nostra attrezzatura di pulizia.

4. Questa apparecchiatura può essere utilizzata per lo sputtering in una glove box (atmosfera di Ar o N2).

Precauzioni

1. La pressione della camera non deve superare 0,02 MPa (pressione relativa).

2. A causa dell'elevata pressione all'interno della bombola del gas, è necessario installare una valvola di riduzione della pressione quando si introduce il gas nel tubo di quarzo. Per garantire la sicurezza, si consiglia di operare a una pressione inferiore a 0,02 MPa. Per una maggiore precisione e sicurezza, consigliamo di acquistare una valvola di riduzione della pressione dalla nostra azienda, con un intervallo di regolazione compreso tra 0,01 MPa e 0,1 MPa.

3. Sconsigliamo l'uso di gas infiammabili, esplosivi o tossici. Se il vostro processo richiede l'uso di gas infiammabili, esplosivi o tossici, vi preghiamo di adottare adeguate misure di protezione e antideflagranti. La nostra azienda non si assume alcuna responsabilità per eventuali problemi derivanti dall'uso di gas infiammabili, esplosivi o tossici.

ConformitàLa certificazione CE, UL o CSA è disponibile a un costo aggiuntivo.


Chi siamo:

Allo stesso tempo, la nostra linea di prodotti copre molteplici settori delle attrezzature da laboratorio, seghe da taglio e da taglio a cubetti, macchine per rettifica e lucidatura, sistemi di fusione, forni da laboratorio, ecc. Per le vostre diverse direzioni di ricerca, disponiamo delle attrezzature corrispondenti per assistere il vostro progetto e migliorare le prestazioni effettive e la precisione del progetto.


Offriamo anche servizi personalizzati. A causa delle variabili di ogni esperimento, possiamo elaborare progetti o raccomandazioni aggiuntivi in base alla vostra situazione. Consultate il nostro team per dettagli specifici.


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