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  • Spin Coater (8K giri/min, wafer da 4

    Spin Coater (8K giri/min, wafer da 4" max.) Con 3 mandrini a vuoto

    VTC-100 Vacuum Spin Coater è dotato di 3 mandrini a vuoto (standard) di diverse dimensioni e diversi mandrini a vuoto possono essere montati in base alle dimensioni dei campioni. Durante il lavoro, il rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-100 utilizza il metodo di adsorbimento della piastra sotto vuoto per fissare il campione sulla piastra del campione. L'apparecchiatura utilizza un programma a due fasi per controllare la velocità.

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  • Spalmatore rotante con mandrino a vuoto programmabile (500-6000 giri/min, 8

    Spalmatore rotante con mandrino a vuoto programmabile (500-6000 giri/min, 8" max)

    VTC-200 Vacuum Spin Coater presenta i vantaggi di un funzionamento semplice, una pulizia conveniente e dimensioni ridotte. Viene utilizzato principalmente nel processo di coltivazione del film nei laboratori di college, università e istituti di ricerca scientifica. Durante il lavoro, il rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-200 utilizza il metodo di adsorbimento della piastra sotto vuoto per fissare il campione sulla piastra del campione. L'apparecchiatura utilizza un programma a due fasi per controllare la velocità.

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  • Spalmatrice ad alta velocità (10.000 giri/min e 5

    Spalmatrice ad alta velocità (10.000 giri/min e 5" max) con copertura UV

    VTC-100PA-UV UV Spin Coater è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimenti superficiali, ecc. Il coperchio superiore adotta una sorgente di luce UV ed è particolarmente adatto per materiali sensibili alla luce UV, che possono solidificare rapidamente il pellicola rivestita. Inoltre, la lampada UV ha anche una funzione di polimerizzazione, che può polimerizzare il monomero in una pellicola polimerica.

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  • Spalmatore con centrifugazione aspirabile e ad atmosfera controllata

    Spalmatore con centrifugazione aspirabile e ad atmosfera controllata

    Il rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-200PV è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimento superficiale, ecc. La camera del rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-200PV può essere messa sotto vuoto per rivestire il campione in condizioni di completo vuoto, che è adatto per materiali in pellicola che si ossidano facilmente e si deteriorano all'aria. Un morsetto viene utilizzato per fissare il campione quando la camera viene messa sotto vuoto. L'apparecchiatura può memorizzare 12 serie di programmi e ogni serie contiene 6 fasi di esecuzione.

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