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Spalmatore rotante senza vuoto da tavolo
VTC-50A Spin Coater adotta sistemi di alimentazione indipendenti per la parte motore e la parte di controllo, e il sistema di controllo della velocità adotta un microcomputer a chip singolo con elevata anti-interferenza per il controllo, in modo che la velocità di rotazione sia molto elevata e stabile nell'intervallo di 1000 -8000 giri/min. Il dispositivo di rivestimento ha due fasi durante il funzionamento, ovvero la fase T1 a bassa velocità e la fase T2 ad alta velocità.
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Spin Coater (8K giri/min, wafer da 4" max.) Con 3 mandrini a vuoto
VTC-100 Vacuum Spin Coater è dotato di 3 mandrini a vuoto (standard) di diverse dimensioni e diversi mandrini a vuoto possono essere montati in base alle dimensioni dei campioni. Durante il lavoro, il rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-100 utilizza il metodo di adsorbimento della piastra sotto vuoto per fissare il campione sulla piastra del campione. L'apparecchiatura utilizza un programma a due fasi per controllare la velocità.
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Spalmatore compatto con rotazione (8K giri/min, wafer da 4" max.) Design con mandrino basso
VTC-100B Vacuum Spin Coater è una versione aggiornata del Vacuum Spin Coater VTC-100. Il coperchio superiore è ripiegabile per l'apertura e la chiusura ed è dotato di serratura di sicurezza. Allo stesso tempo ha la funzione di protezione a coperchio aperto per meglio garantire la sicurezza dell'operatore.
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Spalmatore rotante con mandrino a vuoto programmabile (500-6000 giri/min, 8" max)
VTC-200 Vacuum Spin Coater presenta i vantaggi di un funzionamento semplice, una pulizia conveniente e dimensioni ridotte. Viene utilizzato principalmente nel processo di coltivazione del film nei laboratori di college, università e istituti di ricerca scientifica. Durante il lavoro, il rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-200 utilizza il metodo di adsorbimento della piastra sotto vuoto per fissare il campione sulla piastra del campione. L'apparecchiatura utilizza un programma a due fasi per controllare la velocità.
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Spalmatrice con rotazione ad alta velocità (10.000 giri/min e 5" max)
Il rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-100PA è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimento superficiale, ecc. Può essere utilizzato per soluzioni di rivestimento acide e alcaline forti. L'apparecchiatura è dotata di due mandrini a vuoto di diverse dimensioni (per standard) a seconda delle dimensioni del campione. L'apparecchiatura può memorizzare 12 serie di programmi e ogni serie contiene 6 fasi di esecuzione.
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Spalmatore ad alta velocità con coperchio riscaldante a 100ºC
Il rivestimento con centrifugazione sotto vuoto VTC-100PA-I è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimento superficiale, ecc. Può essere utilizzato per soluzioni di rivestimento acido forte e alcali forti. L'attrezzatura è dotata di due mandrini a vuoto di diverse dimensioni (per standard) a seconda delle dimensioni del campione. L'apparecchiatura può memorizzare 12 serie di programmi e ogni serie contiene 6 fasi di esecuzione.
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Spalmatore ad alta velocità con coperchio riscaldante a 200ºC
Il rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-100PA-II è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimento superficiale, ecc. Può essere utilizzato per soluzioni di rivestimento acido forte e alcali forti. L'apparecchiatura è dotata di due mandrini a vuoto di diverse dimensioni (per standard) a seconda delle dimensioni del campione. L'apparecchiatura può memorizzare 12 serie di programmi e ogni serie contiene 6 fasi di esecuzione.
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Spalmatrice ad alta velocità (10.000 giri/min e 5" max) con copertura UV
VTC-100PA-UV UV Spin Coater è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimenti superficiali, ecc. Il coperchio superiore adotta una sorgente di luce UV ed è particolarmente adatto per materiali sensibili alla luce UV, che possono solidificare rapidamente il pellicola rivestita. Inoltre, la lampada UV ha anche una funzione di polimerizzazione, che può polimerizzare il monomero in una pellicola polimerica.
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Spalmatore rotante anticorrosione (6.000 giri/min e wafer da 6" max.)
Il rivestimento con rotazione sotto vuoto VTC-200P è adatto per processi di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre e rivestimento superficiale, ecc. L'apparecchiatura può memorizzare 12 set di programmi e ciascun set contiene 6 fasi di esecuzione. Il coperchio superiore della camera può riscaldare il campione (funzione opzionale), il che è vantaggioso per il processo di rivestimento di materiali a film sottile ad alta viscosità.
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